为什么大粒径硅溶胶更擅长抛光呢？

大粒径硅溶胶具有优异的粘结性，吸附性及稳定性，使其在众多领域中得到广泛应用。

  例如将大粒径硅溶胶作为单晶硅抛光剂，不仅效果好，而且抛光速度快，硅溶胶研磨料不仅硬度适中，用于CMP时划伤少分散均匀，，而且可长期稳定存放且易清洗，已逐渐成为CMP平坦化加工的首选纳米研磨料，但小粒径硅溶胶用于介质时，抛光速率较低，无法满足高效率要求，因此为实现高质量高效率CMP加工，急需制备大粒径，低分散度的硅溶胶，虽然硅溶胶具有较多优良性能，但其稳定性、粒径较难控制，随着化学抛光等领域的发展，大粒径硅溶胶的需求量也在增大，江门惠和永晟也一直在积极研究完善大粒径硅溶胶的制备工艺，现已实现大粒径高浓度硅溶胶的大规模工业化生产，化学抛光领域。

  硅溶胶抛光液，它采用纳米级工艺，可以达到高效稳定的抛光效果，让工件呈现出高平坦、镜面化效果，而且不会划伤工件，硅溶胶抛光液采用的是纳米级工艺，主要粒径在10-150纳米，适用于各种材质工件的CMP表面镜面处理，它可以应用于半导体晶圆、光学玻璃，、3C电子金属元件、蓝宝石衬底、LED显示屏等高精密元件的平面研磨抛光。硅溶胶抛光液悬浮性极佳，高固含量、分散性好、易摇散且不团聚、化学性能稳定、抛光率高，能有效缩短工时，提高生产效率。

  江门市惠和永晟纳米科技有限公司研发、销售系列硅溶胶及纳米新材料，欢迎咨询