江门惠和永晟提供CMP专用硅溶胶解决方案

分散体系稳定，不易团聚，适应酸据体系及多种配方，易清洗、不易残留

产品技术特点

江门惠和永晟硅溶胶具有体系稳定，定制化服务等优势，针对不同抛光场景，抛光体系做出解决方案，满足复杂工艺需求。

1.高纯度低杂质，保障精密抛光抛光液中的金属离子或有机残留会引发器件漏电、失效或表面二次损伤

惠和永晟解决方案：

用高纯硅溶胶体系，显著降低金属杂质与有机污染;颗粒亲水性好、不易残留、易清洗，有效降低器件失效与清洗二次损伤风险。

2.可控粒径与稳定分散，兼顾高效与低缺陷

颗粒过大或团聚会导致划痕与凹坑，降低良率;颗粒过小或分散性差会导致抛光效率不足。

惠和永晟解决方案：

窄粒径分布、适中硬度及高稳定分散体系，实现“高去除速率+低缺陷”平衡，同时减少大颗粒款阻风险并延长抛光液寿命。

3.关键指标可控，满足多场景抛光需求不同材料、不同工艺对抛光速率、缺陷控制和清洗性能要求差异大。

惠和永晟解决方案：

通过粒径、浓度与表面改性等性能定制，实现关键指标司控。提开硅溶胶与不同添加剂的兼容性，以适配不同的独光场景和抛光工艺体系。